产品简介
等离子表面处理设备寒武纪技术半导体技术
等离子表面处理设备寒武纪技术半导体技术
产品价格:¥150000
上架日期:2024-08-03 10:21:27
产地:中国江苏
发货地:江苏苏州市
供应数量:不限
最少起订:1台
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详细说明

    寒武纪技术系列真空等离子处理设备为单机式等离子表面处理设备,具有基材表面活化、去胶、清洗等效果,常用于贴附、粘胶、印刷、丝印、焊接等工序前预处理,主要应用领域有半导体、LED、汽车制造、3C电子、电子线路板、生物医疗等。

    如下图为设备外形图:

     真空等离子清洗机原理:在密封腔室中,设置两个电极形成电磁场(电容耦合放电),用真空泵实现一定程度的真空环境,随着气体越来越稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离越来越长,受磁场作用,发生碰撞而形成等离子体,同时会发生辉光。等离子体在电磁场空间内运动,并轰击被处理产品表面,伴随一定的粒子件的结合和分解,从而达到产品表面处理、清洗、刻蚀等效果。

     

    设备主要参数:

    进电需求

    单相220V/AC,50-60Hz

     

    控制操作

    PLC+HMI

    三菱+威纶通

    射频频率

    13.56MHz

     

    射频功率

    Max 300W,600W,1000W

    选配

    真空泵

    双极旋片式真空油泵

    可选配干泵

    真空泵抽速

    ≥60m³/h

    可选配

    真空腔体材质

    不锈钢316

    陶瓷绝缘

    真空保压

    <20Pa/min

     

    工作真空度

    5-100Pa可设

     

    工艺气体通道

    标配2路(氧气和氩气,其他气体可定制)

     

    气体质量流量计

    MFC:0-200sccm

    标配

    设备极限真空度

    ≤3Pa

     

    报警功能

    工艺气体气压报警、RF功率报警、压缩空气气压报警、工艺气体流量报警、相序报警、真空泵异常报警等(屏幕显示及三色灯声光报警)

     

    参数配方

    可自行设置及保存调用参数配方,配方包含气体流量、RF功率、工作真空度、等离子处理时间等参数,可保存配方≥50条

     

    监控功能

    实时RF功率、真空度、气体流量、等离子处理时间等

     

    电极层数

    标配五层电极,电极间距40mm

    可根据客户需求定制

    有效处理层数

    标配托盘4层

    可定制

    有效处理面积

    可定制

     

    设备治具

    标配钢丝网托盘,可定制

     

    放电方式

    CCP(电容耦合放电)

     

    外部接气

    气压≥0.6MPa,外径6mmPU软管

     

    设备故障率

    ≤1%

     

     

    设备功能

    本设备为等离子表面处理设备,专注于各类产品基材表面的清洁、活化及表面张力的提升。设备具有完善的真空系统、控制系统及人机界面、进气系统、等离子体发生系统、高真空密封腔室、钣金框架等,可以实现高真空环境下的等离子体发生,精准控制各类特种气体进量,进而实现多种活性基团、粒子等对基材表面的精密处理。

    设备一般运行流程如下:真空等离子处理设备主要包括等离子发生器、真空泵、真空腔体,输送管路等。在等离子体处理时,首先利用真空泵将真空腔体内的空气抽至设定的工作真空度,然后通过输送管路将工作气体输入正空腔体内部,当气体含量达到设定要求后等离子发生器启动,通过真空腔体内部的上下正负电极之间放电将工作气体电离从而产生Plasma,然后对样品表面进行处理,来达到改变表面活性和清洁等目的。

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