EDI高纯水体系简介:
电去离子Electrodeionization，简称EDL，又称接连电

免除盐技能，它科学地将电渗析技能和离子交流技能融为一体，经过阻、阳

离子
的挑选透过效果以及离子交流树脂对水中离子的交流效果，在电场的作

用下实现水中离子的定向搬迁，然后达到水的深度净化除盐，并通
过水电解

发生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行接连再生，因而EDI制水进程不需

酸，碱化学药昂再生即可接连制取高品质纯水.
EDI高纯水体系作业原理:
自来

水中常含有钠、钙、镁、氯、硝酸盐、碳酸盐、硅等溶解盐。这些盐是由负

电离子(负离子)和正电离子(正离子)组成。反渗
透能够除掉其中超过 99%的

离子。自来水也含有微量 金属，溶解的气体(如CO2)和其它必须在工业处理

中去除的弱离子化的化合物(如
硅和硼砂)。
RO 出水(FDI讲水)一般为 4-

30us(申导)，依据不同重要，超纯水或去离子水一般电 阴为 2-15MO CM，

lonpure 的 FDI 经过用氨离
子或氢氧根离子将它们交流并将它们送至浓水 

流中除掉它们。交流反应在模块的纯化室进行，在那里阴离子交流树脂用它

们的氧氧根离子
(OH截图(Alt+A)盐中的阳离子(如CL-)。相应地，阳离子交流

树脂用它们交流树脂用它们的氢离子(H+)来交流溶解盐中的阳离了
(如Na+)。

在坐落模块两端的阳极(+)和阴极(-)之间加一向流电场。电势就使交流到树

脂上的离子沿着树脂粒的外表搬迁并经过膜
进入浓水室。 阳极招引负离子(

如OH-，CL-)。这些离子穿过阴离子膜进入相临的浓水流却被阴离子膜阻隔，

然后留在浓水流中。阴极
招引超纯水流中的阳离子(如H+，Na+)，这些离子穿

过阳离子挑选 膜，讲入相临的浓水流却被阻离子膜阳隔，然后留在浓水流中

。当
水流过这两种平行的室时，离子在超纯水室被除并在相临的浓水流中聚

积，然后由浓水 流将其从模块中带走，在超纯水及浓水中离子交流
树脂的使

用是lonpure FDI技能和专利的关 键，一个重要的现象在超纯水室的离子交

换脂中发生，在电势差高的部分区域，电化学反应分
解的水发生的大量的H+

和OH-，在混床离子交流树脂中部分H+和OH-的发生使树脂和膜不需要添加化

学药品就能够持续再生，使FDI外
干丅作状况，不出毛病的其本要求是对 

FDI进水进行恰当的预外理，进水中的杂质对去离子模块有很大影响，并可能

导致缩短模块的
寿命。


EDI进水规范:
以下是确保 EDI 正常运转的条件。

为了使体系运转效果更佳，体系规划时应恰当进步这些条件。
★给水:RO超纯

水，一般水的电导率为4-30us/cm。
★PH:5.0-8.0(在此PH条件下，水硬度不

能太高)
★温度:5-35℃
★进水压力:为4kq/cm2(60psi)，最小为

1.5kg/cm2(25psi)。留意:组件压力丢失取决于流量和水温。EDI组件规范配

置:
★出水压力:浓水和电极水的出口压力必须低于产品的出口压力。
★硬度(

以CaCO3计):为1.0ppm，主张采用0.1ppm。
★有机物:为0.05ppm。
★

氧化剂:为0.05ppm(CL2)，0.02ppm(03)。
★变价金属:为 0.01 ppm 

Fe
★二氧化硅:50-150ppb。
★二氧化碳CO2的总量:二氧化碳含量和PH值将明

显影响产品水电阻率。在大于10ppm 时般应在EDI设备前设备脱气设备。

孟孟

:
EDI高纯水体系优点:
1、不需要酸碱再生 电除盐的操作安全的，废水的处理

变得简单了。
2、可接连出产 电除盐的出产是接连的，免除了运用混床进程

中复杂的再生操作，减少了许多备用设备。
3、不需要处理废酸碱 没有废酸

碱的中和排放处理体系。电除盐的浓水能够直接排放或返回到 RO 的进口

(EDI 中浓水量比超纯水少得
多)。
4、设备条件简单 电除盐在设备时，占地

面积小，大部分规范厂房都能满足，对干较低的厂房，能够经过对 电除盐模

块的水平装备处理。
5、体系规划简单 电除盐的模块规划很简单把它的流量

做到450吨/小时甚至更高。
6、运转成本低 申除盐体系与各种混床相比，在

价格上有竞争性。
7、实用的规划 关于电除盐体系，不管是修理仍是增减设

备的容量都是很简单的,必需要更换膜堆时，在现 场只要花极少的停机时间

就能够
完成。
8、水质安稳 申除盐的出水质量安稳有把握。不会有普通混床

那样的水质变化。
9、设备修理简便 电除盐设备允许经过对其他膜堆的流量

重新分配而达到对某一个膜堆修理的要求，不改动体系的功能。

孟孟:
EDI设

备应用领域:
1、电厂化学水处理;
2、电子、半导体、精密机械职业超纯水
3、

制药工业工艺用水;
4、食品、饮料、饮用水的制备;
5、海水、苦咸水的淡化 

;
6、精细化工、精尖学科用水;
7、半导体资料、器件、印刷电路板和集成电

路用纯水;
8、半导体资料、晶元资料出产、加工、清洗;
9、轿车、家电外表

抛光处理;
10、其他职业所需的高纯水制备。