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日本沙磨理工thermo riko无接触式红外线真空加热炉GVH198
日本沙磨理工thermo riko无接触式红外线真空加热炉GVH198
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上架日期：2020-09-23 11:27:36
产地：日本
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供应数量：不限
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详细说明

    日本沙磨理工thermo riko无接触式红外线真空加热炉GVH198

    GVL298sys
    只有安装在各种气氛（例如超高真空或气流）中的样品才能通过红外线精确定位，以快速加热样品而不会发生接触。
    它可以轻松连接到真空系统或分析仪。
    这是Thermo Riko的主要型号。
    快速升温 ：最高升温速度150℃/秒，最高1500℃约1min
    清洁加热 ：不用担心热源或电磁感应产生的气体
    局部供暖 ：仅用红外线照射样品，请勿加热周围环境
    可自由安装 ：可以连接到各种真空系统（ICF70）
    Si和SiC石墨烯等样品的高速升温和退火
    氧化气氛中的氧化物晶体形成和薄膜形成
    在氢气和氮气中加热基材
    在X射线或紫外线照射下样品的温度升高
    在分析仪中加热样品，例如加热的解吸气体分析仪，XPS，XRD，PLD等。
    在磁场中加热，在非磁场中加热
    在加压气氛中加热
    加热样品
       红外线引入加热装置根据应用具有以下规格。
     超高真空型 它支持 10 -9 Pa的超高真空。
     高速升温型  最大温度上升率可以实现150°C /秒的高速温度上升。
     常温加热型  对于放置在大气中的样品，可以进行点加热。
     加压气氛类型  可以加热压力在10个大气压以下的样品。
     特殊功能  利用GV系列的功能，我们可以满足各种要求，例如快速降温，负载加热和在磁场中加热。
     请随时与我们联系。
     CE标志合格  我们还生产符合CE标志的规范。

    原理图
     超高真空型GVH
    型号名称 GVH198 GVH298
     红外灯额定值 1千瓦 2千瓦
     最高温度 1200℃ 1400℃
     受热面 φ20毫米
     最大加热速度 1℃/秒
     最大极限真空 5×10 -9帕
     冷水量 1升/分钟 2升/分钟
     高速升温型GV / GVL
    型号名称 GV154 GV198 GVL298 GVL398
     红外灯额定值 500瓦 1千瓦 2千瓦 3千瓦
     最高温度 1100℃ 1300℃ 1500℃ 1600℃
     受热面 φ14毫米 φ20毫米
     最大加热速度 100℃/秒 100-150℃/秒
     最大极限真空 5×10 -7帕
     冷水量 1升/分钟 2升/分钟
     加压气氛类型GVP
    型号名称 GVP198 GVP298
     红外灯额定值 1千瓦 2千瓦
     最高温度 1200℃ 1300℃
     受热面  φ20毫米
     最大加热速度  100℃/秒
     最大耐压  1MPa以下
     冷水量 1升/分钟 2升/分钟
    快速退火红外引入加热系统GV1 / GV2
    底部照射型红外线热处理装置RTA198 / RTA298
    热温解吸气体分析仪GV2H
    红外引入加热系统，用于在磁场中加热样品GVL298M / GV154M / GV-M 1
    X射线地形图的红外线导入加热装置
    XPS设备安装示例
    它由红外导入主体，多端口真空室，温度控制器等组成，可以在超真空下以超高速升高样品的温度。
    由于端口很多，因此可以用于各种实验。
    可以进行干净的加热，并且可以通过打开和关闭真空室的前门来取出和取出样品。
    [应用]-
    在真空/气体气氛中连续控制样品的温度上升/
    下降-样品表面加热和背面冷却的快速上升
    / 下降测试（可选）-在加压气氛中加热（可选）
    型号名称 GV1 GV2
     红外灯额定值 1千瓦 2千瓦
     最高温度 1300℃ 1500℃
     受热面 〜Φ20毫米
     最大加热速度 100-150℃/秒
     最大极限真空 5×10 -5帕
     冷水量 1升/分钟 2升/分钟
    		GV2
    它由红外线引入加热装置，小型真空室，温度测量样本单元，恒定值温度控制器等组成。
    通过用来自底表面的红外线在真空室中照射样品，可以进行样品的清洁加热和快速退火。
    您可以从反应室顶部的观察窗观察并观察温度升高期间的样品。
    型号名称 RTA198 RTA298
     红外灯额定值 1千瓦 2千瓦
     最高温度 900-1000℃ 1000-1300℃
     受热面 〜Φ20毫米
     最大极限真空 5×10 -3帕 5×10 -5帕 
     冷水量 1升/分钟 2升/分钟
    		 
    		RTA298
    它由超高真空型红外引入加热装置，超高真空室，质量分析仪，电源/安全电路单元和真空排气装置组成，可以分析从高温样品中产生的痕量气体。 ..
    红外线导入加热装置在真空室内具有热源，不产生气体，可以进行干净的加热，可以进行高精度的分析。
    型号名称 GV2H
     红外灯额定值 2千瓦
     最高温度 1500℃
     受热面 φ15毫米
     最大极限真空 5×10 -6帕 
     目的地 京都大学
    		GV2H
     
     
    它也是磁场中样品热处理的理想选择。
    [特点]-
    清洁加热，不会因电磁感应而影响样品，因为它被光加热-
    只能精确加热样品，不加热磁体。
    还可以在真空或气体气氛中在磁场中升高温度。
    它可以连接到各种电磁体和超导磁体。
    加热后的样品与可控气氛的石英芯管一起插入磁体孔中。
    在样品温度为1000°C时，孔内壁温度为40°C或更低。
    		 GVL298M
     
     
    在高真空的X射线照射过程中，样品被加热到超高温。
    （红外线是从左上和右下对角线方向发出的，而线X是从左上和水平方向上发出的。）
    真空室安装在XY工作台，旋转工作台和旋转工作台上，可以在加热，保持或降低样品的同时从任何角度进行晶体结构分析。
    型号名称 GVL298-2S
     红外灯额定值 2千瓦x 2
     最高温度 1500℃
     受热面 φ20毫米
     最大极限真空 5×10 -4帕 
     交货地点：Spring-8
    		 GVL298-2S
     
     
    许多红外线引入加热设备与各种分析仪结合使用。
    		 
    这是在XPS上安装GVL298类型的示例。
    样品的温度通过红外辐射升高，并且样品中所含的水和气体被去除和清洁。
    通过超高真空中的传输杆将样品移至照片右侧的XPS分析室，然后施加X射线进行表面分析。


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