日本Shimadzu岛津氮化物真空加压烧结急速冷却炉PVSGgr20/20N适用于Si?N?氮化硅、硬质合金、非氧化物陶瓷的烧结。新能源汽车、高铁、城市轨道交通、5G 基站等设备上大功率控制模块的散热基板及汽车、风电等设备上高精度、高转速陶瓷轴承球的烧结处理。

用途：Si?N?氮化硅基板、Si?N?氮化硅轴承球、 Si?N?氮化硅结构件

日本Shimadzu岛津氮化物真空加压烧结急速冷却炉PVSGgr20/20N技术规格

有效尺寸(mm)：200*200

处理量(KG)：10

额定温度(℃)：2200

真空度(Pa)：7x10-1或7x10-3

压力：0.9MPaG

加热电力：30KW

加热电力：N2,Ar

岛津作为日本真空炉专业生产代表厂家，在硬质合金，合金陶瓷，金属注射成形的生产和研究开发大部分的市场份额。经过数十年培育出的技术和成熟的生产工艺，系列化生产的真空炉，可以为用户提供高质量的产品和服务。在中国，韩国等海外市场，也已拥有众多的销售业绩，并得到客户的青睐。

日本Shimadzu岛津氮化物真空加压烧结急速冷却炉PVSGgr20/20N由于1MPa的低压烧结，可以在一定程度上提高产品的抗弯强度和明显减少偏差，因此部分替代6MPa的低压炉使用，从而降低生产成本。