设备简介：

耙材喷涂生产线 及 制粉系统
等离子喷靶材铬靶、钛靶、硅铝靶设备
供应生产线--镀膜靶材喷涂及先进的制造设备技术
生产线---镀膜靶材喷涂及制造设备技术特点：
应用于玻璃镀膜（建筑玻璃和汽车玻璃）工业
产品远销东南亚等地与广大客户建立了良好的合作关系。优良的产品质量和及时的服务为企业赢得了良好的口碑。目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，较之较早点的蒸发镀膜方式，其很多方面的优势相当明显。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。

磁控溅射原理：在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，永久磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频
生产线---镀膜靶材喷涂及制造设备技术构成：
采用等离子喷涂 （提供 SX~R全自动喷砂设备、SX-80全自动喷涂设备、系列配置靶材喷涂硅铝粉制设备及工艺、喷涂房配置设计等先进方案）

喷涂房 （隔音标准化、环保生态化、人性化、产量化高）