产品参数 | |||
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品牌 | 华诺激光 | ||
加工周期 | 3-5天 | ||
适用工件 | 蒸镀掩膜版、科研实验掩膜版、金属MASK、金属遮罩、叉指电极掩膜版 | ||
加工定制 | 是 | ||
自动化程度 | 全自动 | ||
年最大加工能力 | 999999 | ||
产品材质 | 不锈钢、铜、铝、钼、钛合金 | ||
加工精度 | ±20um | ||
打样周期 | 1-3天 | ||
加工厚度 | 0.05-2.5mm | ||
应用范围 | 镀膜、光刻、科研等 | ||
产地 | 北京天津 | ||
售卖地 | 全国 | ||
可售卖地 | 北京;天津;河北;山西;内蒙古;辽宁;吉林;黑龙江;上海;江苏;浙江;安徽;福建;江西;山东;河南;湖北;湖南;广东;广西;海南;重庆;四川;陕西;甘肃 | ||
用途 | 掩膜版定制加工 | ||
型号 | CN230301856 |
掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形,用光刻机在原材料上光刻出 相应的图形,将不需要的金属层和胶层洗去,即得到掩膜版。掩膜版的原材料掩膜版基板是制作微细光掩膜图形的感光空白板。通过光刻制版工艺,将微米级和纳米级的精细图案刻制于基板上制作成掩膜版。掩膜版的作 用主要体现为利用已设计好的图案,通过透光与非透光方式进行图像(电路图形)复制,从而实现批量生产。
我司专业定做掩膜版 掩模板 掩膜板 掩模版 mask 金属掩模板 不锈钢掩膜版 ,主要适合于高校、科研所、高科技公司的实验室使用,也适合于工厂批量生产,掩模板可以应用于电子束蒸发,热蒸发,磁控溅射等真空镀膜设备中,用来制备OTFT、OPV、OLED、钙钛矿太阳能电池,光电探测器,场效应晶体管等各种器件图形化薄膜和电极。由于都是定制的产品,具体价格需要发图纸确认后,才能正式报价。我公司产品均按客户图纸单独定制,退回无法再销售,如有品质问题,需按我司标准裁决,如超出我司标准,我们一定会以诚信为本,承担责任(免费重做),但不承担额外的损失,请客户检验好再使用,谢谢!