参 数 名 称 |
单 位 |
配置 |
沉积类型 |
|
二氧化硅,氮化硅,类金刚石等 |
电 源 |
|
射频电源,带正向功率和反射功率计指示,带匹配器 |
加热系统 |
|
平板式双反应室系统,带加温和匀气系统 |
工 作 温 度 |
℃ |
100~600℃ |
基片台尺寸 |
(φ×H)mm |
1英寸、二英寸、三英寸、四英寸 |
基片台转速 |
|
转速0-20RPM |
控 温 精 度 |
℃ |
±1 |
极限真空 |
pa |
8.0×10-5 |
密封系统 |
|
磁流体密封 |
水冷、气路系统 |
|
冷却水循环机、无噪声气泵 |
报警及保护 |
|
对缺水、过流过压、断路等异常情况进行报警及相应保护措施 |
真空系统
(选 配) |
真空系列 |
单级机械泵、扩散泵机组、分子泵 |
工作腔体 |
不锈钢 | |
气氛系统 |
浮子流量计、进口、国产质量流量计 | |
记录装置 |
进口、国产无纸记录仪 | |
备注:西尼特可根据阁下要求提供各种非标产品的设计制造,欢迎来函、来电咨询!
24小时热线:400-668-6260 18610138965 Fax:010-51418223
cntdl@sina.com http://www.cimitdl.com |