1794-OB32P变频器CPU处理器电源模块
在同期的IC制造产业链国际论坛上,思锐智能副总经理陈祥龙表示:“离子注入设备正在赋能新一代逻辑,存储,图像传感器,功率半导体等热门应用领域均可利用离子注入机以提升器件性能或产能。新兴应用推动了离子注入技术创新,以消费市场为例,智能手机对于相机像素的要求越来越高,图像传感器(CIS)需要制备更高深宽比的深层光电二极管。
1794-IC16
1794-IE12
1794-IE4XOE2
1794-IE8
1794-IE8H
1794-IF4I
1794-IF4IXT
1794-IF8IH
1794-IG16
1794-IH16
1794-IJ2
1794-IM16
1794-IM8
1794-IR8
1794-IRT8
1794-IT8
1794-IV16
1794-IV32
1794-OA16
1794-OA8
1794-OA8I
1794-OB16
1794-OB16D
1794-OB16P
1794-OB32P
1794-OB8
1794-OB8EP
1794-OC16
1794-OE12
1794-OE4
1794-OE4XT
1794-OE8H
1794-OF4I
1794-OF8IH
1794-OG16
1794-OM16
1794-OM8
1794-OV16
1794-OV16P
1794-OV32
1794-OB32P变频器CPU处理器电源模块
此时,离子注入的能量将达到8MeV、甚至超过10MeV,高能离子注入机成为不可替代的选择。同时,先进制程的发展也进一步推动了低能大束流机的应用。思锐智能布局了“高能离子注入机 + 大束流离子注入机”的系列产品组合,以应对更多应用挑战。”