产品简介

品牌 产地类别 应用领域

其他品牌	进口
医疗卫生,环保,化工,能源,电子

实验室用快速退火炉 又名RTP设备，此设备为型号AS-One系列，分为可以处理4“基片的AS-ONE100以及处理6“基片的AS-ONE150，更小的基片可使用基片托。主要用于大学，研究实验室以及年产量高达10000晶圆的小规模生产。

详情介绍

　　实验室用快速退火炉  　　1、设备尺寸详情：
 　　AS-0NE100：530*800*1425mm
 　　2、型号介绍：
 　　不锈钢水冷壁腔室壁真空快速退火炉(快速热处理炉)，具有4英寸(100 mm) 和 6英寸 (150 mm) 两种版本
 　　3、性能和特征：
 　　可处理4-inch 及以下和 6-inch 及以下的晶圆，可适用大范围类型的基片：硅和化合物半导体晶圆，GaN /蓝宝石和碳化硅晶圆，多晶硅晶圆，玻璃，金属，高分子聚合物，石墨和碳化硅托盘等等。
 　　设备应用具有：硒化、硫化、接触退火，注入退火，RTO (快速热氧化) ，RTN (快速热氮化) ，硅平滑，扩散，致密化和结晶化，石墨烯CVD，碳纳米管等。
 　　不锈钢水冷腔壁技术，高工艺复现性，超洁净及无污染环境
 　　高冷却速率，低记忆效应
 　　具有真空能力，可选配分子泵
 　　温度控制：高温计和热电偶控制+快速数字PID温度控制器
 　　边缘高温计视口，确保用于化合物半导体和小型样品
 　　基片托的温度控制
 　　实验室用快速退火炉
 　　　　4、快速退火炉的具体参数
 　　温度范围: 室温至1250°C(AS-One100)、室温至1450°C(AS-One100HT)、室温至1200°C(AS-One150)、室温至1300°C(AS-One150HT)、升温速率：可达200°C/s(AS-One100)，可达150°C/s(AS-One150)
 　　特殊配置下冷却速率达 100°C/s(选配快速冷却装置)
 　　可配5条带质量流量控制器(MFC)的工艺气路
 　　标配一条吹扫气路
 　　具有真空能力，配备干泵，可选配分子泵。