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Star.220 用于多功能膜层沉积的共溅射设备，适于传感器 , 微电子和光电子等领域应用高精密光学镀膜机。

详情介绍

   高精密光学镀膜机 

FHR.Star.220 磁控溅射镀膜机 是一款特殊设计 , 结构紧凑的溅射台，用于晶片类基底或基底承载器的工艺处理。镀膜工艺通过不加热的背板盛放基底承载器并旋转实现。每个溅射源可轴向和水平方向调节，因此，可实现不同高度基底多种靶基距范围的镀膜工艺。机械手通过上料盒升降装置的上下移动传输基底承载器。基底的依次镀膜工艺通过自动编程自动得以实现。

高精密光学镀膜机设备详情：

基片大尺寸：直径6英寸

进样室类别：盒式载片器进样室

溅射靶位：多6个

设备尺寸：3300mm×1300mm×2500mm

重量：3000Kg

可选件：基片加热、靶基距可调、RF等离子体刻蚀

工艺气体：氩气（Ar），可选氧气（O₂），氮气（N₂） 

膜厚均匀性：±5%

极限真空：5×10^-7mbar

Star.220 磁控溅射镀膜机典型应用：硅基半导体、化合物半导体、功率半导体、MEMS、传感器微电子、光电子

 

　北京朗铭润德光电科技有限公司是一家在半导体微电子、高精密光学镀膜领域，光伏、光热、锂电池等新能源领域以及窗膜、汽车膜、柔性电路板等行业提供专业相关工艺设备的代理公司。
 　　从2006年起与德国著名微电子设备专业厂家FHR公司开始合作，并于2008年成为其中国区的代理机构。通过我们的合作，使 FHR的产品逐渐进入中国，并成为国内镀膜设备的供货商。
 　　我们于 2010 年在北京石景山中关村高科技园区成立了专业代理国外微电子半导体及相关设备的北京朗铭润德光电科技有限公司，并与*技术供货商建立合作关系，为公司全面化运转及操作奠定了良好开端。