产品简介

品牌 价格区间 产地类别 应用领域

自营品牌	面议
进口	化工,能源,电子,印刷包装,电气

RTP-1200快速退火炉
该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高（3安培），性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。

详细介绍

RTP-1200快速退火炉
该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高(3安培)，性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。
 

技术规格： 
  - 加热方式：红外卤素灯，600W；
  - 红外灯数量：4支；
  - 升温速率：100℃/秒；
  - 降温速率：50秒(1000℃ → 400℃)；
  - 温度：1200℃；
  - 温度精度：+/-0.3℃
  - 大样品尺寸：15 x 20mm；
  - 退火环境：真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢氮混合气等)；
  - 真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(选配)；
  - 电压：220 V，单相；
  - 仪器尺寸：400*300*450mm (W*D*H)；
  - 质量：净重30Kg；

RTP-1200快速退火炉

仪器特点：

• 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；
• 温控精度高；
• 无须配置冷水机；
• 无须使用三相电，普通实验室单相电即可使用；
• 紧凑的台式设计；
• 仪器操作方便，样片装取容易；
• 适合高校或研究所科研使用；
• 价格合理，高性价比；
•  

应用领域：

• 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing, RTA);
• 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation, RTO);
• 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation, RTN);
• 硅化 (Silicidation);
• 扩散 (Diffusion);
• 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
• 离子注入后退火 (Implant Annealing);
• 电极合金化 (Contact Alloying);
• 晶体化和致密化 (Crystallization and Densification);
• 合金熔点分析；
• 薄膜沉积；
• 等等…