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光学薄膜测厚仪
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原

详细介绍

光学薄膜测厚仪

薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原

光反射薄膜测厚仪
原产国：美国
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉，干涉的发生与膜厚及折光系数等有关，因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、且快速的光学薄膜厚度测量技术，我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器。近几年，每年的销售量都超过200台。根据型号不同，测量范围可以从10nm到250um，它可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度（其中一层为基底材料）。该产品可应用于在线膜厚测量，测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜，也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。
 
应用领域 
理论上讲，我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们熟悉的应用领域(半导体薄膜，光学薄膜涂层，在线原位测量，粗糙或弧度表面测量)：
- 晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...)；
- 晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...)；
- DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层；SOI硅片；
- MEMs厚层薄膜(100μm up to 250μm)；
- DVD/CD涂层；
- 光学镜头涂层；
- SOI硅片；
- 金属箔；
- 晶片与Mask间气层；
- 减薄的晶片(< 120μm)；
- 瓶子或注射器等带弧度的涂层；
- 薄膜工业的在线过程控制；等等…

 

软件功能 
丰富的材料库：操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据，基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。
软件操作简单、测速快：膜厚测量仪操作非常简单，测量速度快：100ms-1s.
软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。
软件带有构建材料结构的拓展功能，可对单/多层薄膜数据进行拟合分析，可对薄膜材料进行预先模拟设计。
软件带有可升级的扫描功能，进行薄膜二维的测试，并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。