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EDI模块维修项目EDI设备维修
发布者：longbiyuang 发布时间：2022-05-19 15:35:12
EDI高纯水体系简介:
电去离子Electrodeionization，简称EDL，又称接连电解除盐技能，它科学地将电渗析技能和离子交流技能融为一体，经过阻、阳离子
的挑选透过作用以及离子交流树脂对水中离子的交流作用，在电场的作用下完结水中离子的定向搬迁，然后达到水的深度净化除盐，并通
过水电解发生的氢离子和氢氧根离子对装填树脂进行接连再生，因此EDI制水进程不需酸，碱化学药昂再生即可接连制取高品质纯水.
EDI高纯水体系工作原理:
自来水中常含有钠、钙、镁、氯、硝酸盐、碳酸盐、硅等溶解盐。这些盐是由负电离子(负离子)和正电离子(正离子)组成。反渗
透能够除掉其中超过 99%的离子。自来水也含有微量 金属，溶解的气体(如CO2)和其它必须在工业处理中去除的弱离子化的化合物(如
硅和硼砂)。
RO 出水(FDI讲水)一般为 4-30us(申导)，依据不同重要，超纯水或去离子水一般电 阴为 2-15MO CM，lonpure 的 FDI 经过用氨离
子或氢氧根离子将它们交流并将它们送至浓水 流中除掉它们。交流反应在模块的纯化室进行，在那里阴离子交流树脂用它们的氧氧根离子
(OH截图(Alt+A)盐中的阳离子(如CL-)。相应地，阳离子交流树脂用它们交流树脂用它们的氢离子(H+)来交流溶解盐中的阳离了
(如Na+)。在坐落模块两端的阳极(+)和阴极(-)之间加一向流电场。电势就使交流到树脂上的离子沿着树脂粒的外表搬迁并经过膜
进入浓水室。 阳极招引负离子(如OH-，CL-)。这些离子穿过阴离子膜进入相临的浓水流却被阴离子膜阻隔，然后留在浓水流中。阴极
招引超纯水流中的阳离子(如H+，Na+)，这些离子穿过阳离子挑选 膜，讲入相临的浓水流却被阻离子膜阳隔，然后留在浓水流中。当
水流过这两种平行的室时，离子在超纯水室被除并在相临的浓水流中聚积，然后由浓水 流将其从模块中带走，在超纯水及浓水中离子交流
树脂的运用是lonpure FDI技能和专利的关 键，一个重要的现象在超纯水室的离子交流脂中发生，在电势差高的部分区域，电化学反应分
解的水发生的大量的H+和OH-，在混床离子交流树脂中部分H+和OH-的发生使树脂和膜不需要添加化学药品就能够继续再生，使FDI外
干丅作状态，不出毛病的其本要求是对 FDI进水进行适当的预外理，进水中的杂质对去离子模块有很大影响，并可能导致缩短模块的
寿命。
EDI进水规范:
以下是保证 EDI 正常运转的条件。为了使体系运转作用更佳，体系规划时应适当提高这些条件。
★给水:RO超纯水，一般水的电导率为4-30us/cm。
★PH:5.0-8.0(在此PH条件下，水硬度不能太高)
★温度:5-35℃
★进水压力:为4kq/cm2(60psi)，最小为1.5kg/cm2(25psi)。留意:组件压力丢失取决于流量和水温。EDI组件规范装备:
★出水压力:浓水和电极水的出口压力必须低于产品的出口压力。
★硬度(以CaCO3计):为1.0ppm，主张采用0.1ppm。
★有机物:为0.05ppm。
★氧化剂:为0.05ppm(CL2)，0.02ppm(03)。
★变价金属:为 0.01 ppm Fe
★二氧化硅:50-150ppb。
★二氧化碳CO2的总量:二氧化碳含量和PH值将明显影响产品水电阻率。在大于10ppm 时般应在EDI设备前装置脱气装置。
孟孟:
EDI高纯水体系长处:
1、不需要酸碱再生 电除盐的操作安全的，废水的处理变得简略了。
2、可接连出产 电除盐的出产是接连的，免除了运用混床进程中杂乱的再生操作，减少了很多备用设备。
3、不需要处理废酸碱 没有废酸碱的中和排放处理体系。电除盐的浓水能够直接排放或返回到 RO 的进口(EDI 中浓水量比超纯水少得
多)。
4、装置条件简略 电除盐在装置时，占地面积小，大部分规范厂房都能满足，对干较低的厂房，能够经过对 电除盐模块的水平装备解决。
5、体系规划简略 电除盐的模块规划很简单把它的流量做到450吨/小时甚至更高。
6、运转成本低 申除盐体系与各种混床相比，在价格上有竞争性。
7、实用的规划 关于电除盐体系，不管是修理仍是增减设备的容量都是很简单的,必需要替换膜堆时，在现 场只要花极少的停机时刻就能够
完结。
8、水质稳定 申除盐的出水质量稳定有把握。不会有普通混床那样的水质变化。
9、装置修理简洁 电除盐装置允许经过对其他膜堆的流量重新分配而达到对某一个膜堆修理的要求，不改变体系的功能。
孟孟:
EDI设备应用领域:
1、电厂化学水处理;
2、电子、半导体、精细机械职业超纯水
3、制药工业工艺用水;
4、食物、饮料、饮用水的制备;
5、海水、苦咸水的淡化 ;
6、精细化工、精尖学科用水;
7、半导体资料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水;
8、半导体资料、晶元资料出产、加工、清洗;
9、汽车、家电外表抛光处理;
10、其他职业所需的高纯水制备。
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